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  • OYS-1200C1200℃可傾斜式旋轉管式爐
    1200℃可傾斜式旋轉管式爐采用雙層風冷結構，爐膛采用高純度氧化鋁微晶纖維高溫真空吸附成型；搭配兩路混氣質子流量控制系統。是專為高校、科研院所的實驗室及工礦企業(yè)在可控多種氣氛及真空狀態(tài)下對金屬、非金屬及其它化合物進行燒結、熔化、分析而研制的設備。
    更新時間：2024-10-31型號：OYS-1200C廠商性質：生產廠家
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  • GYS-1700C+GYS-4F+真空泵CVD真空系統
    CVD真空系統 GYS-1700C+GYS-4F+真空泵+真空連接配件 以硅鉬棒為加熱元件，采用雙層殼體結構和50段程序控溫，B型熱電偶，雙層爐殼間配有風冷循環(huán)系統，最高溫度能達到1700°C，可在1600℃下連續(xù)工作，控溫精度±1C；該爐具有溫場均衡、表面溫度低、升降溫度速率快節(jié)能等優(yōu)點，是高校、科研院所、工礦企業(yè)做新材料樣品的燒結或是退火（在真空或是惰性氣體保護狀態(tài)下)的合適產品。
    更新時間：2024-10-31型號：GYS-1700C+GYS-4F+真空泵廠商性質：生產廠家
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  • OYS-1200C-ⅢCVD系統管式爐
    CVD系統管式爐是一種重要的材料制備設備，廣泛應用于大專院校、科研院所、工礦企業(yè)等實驗和小批量生產之中。它主要用于在固態(tài)基材上沉積一層薄膜，其組成部分包括高溫真空管式爐、氣路和真空系統。
    更新時間：2024-10-31型號：OYS-1200C-Ⅲ廠商性質：生產廠家
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  • OYS-1200C-ⅢPECVD系統爐
    PECVD系統爐即等離子增強化學氣相沉積爐，是一種基于等離子體化學氣相沉積技術的薄膜沉積設備，是一款三溫區(qū)開啟式管式爐，其最高溫度可以達到1200℃（1200℃1H）。
    更新時間：2024-10-31型號：OYS-1200C-Ⅲ廠商性質：生產廠家
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  • GYS-1500C-IICVD系統（高真空）
    CVD系統（高真空）GYS-3Z+OYS-300F+(真空連接配件)1.包含一款通過CE認證的高溫管式爐，2.包含一款GYS-3Z低成本的流量計控制系統 3.包含一款OYS-300F風冷分子泵機組參數表。
    更新時間：2024-10-31型號：GYS-1500C-II廠商性質：生產廠家
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